NANOVEA의 색수차 공초점 기반 Chromatic Light 기술을 적용하여 높은 수직 정확도로 표면 형상을 측정합니다. 설치 공간, 간편한 사용 및 비용 효율성이 중요한 연구실과 품질관리 환경에서 일상적인 표면 특성 분석에 적합합니다.
비접촉 표면 측정의 새로운 표준
NANOVEA 비접촉식 광학 프로파일러는 기존의 접촉식 촉침 프로파일러와 레이저 프로파일러를 대체할 수 있는 이상적인 업그레이드 솔루션입니다.
시료 표면에 직접 접촉하지 않고 측정하기 때문에 표면을 손상시키지 않으며, 다양한 재료와 표면 형상을 정밀하게 분석할 수 있습니다.
합리적인 투자
필요한 표면 측정 기능을 컴팩트한 시스템에 모두 담았습니다.
✔︎ 다양한 표면 측정 기능
✔︎ 공간 효율적인 컴팩트 설계
✔︎ 합리적인 도입 비용
정교한 성능, 간결한 설계
✔︎ X-Y 스캔 영역 : 50 × 50 mm 전동 스테이지
✔︎ 높이 측정 범위 : 나노미터에서 센티미터까지
✔︎ 장비 크기 : 38 × 33 × 43 cm
✔︎ 스캔 속도 : 20 mm/s
50 × 50 mm 전동 스테이지
나노미터에서 센티미터까지
38 × 33 × 43 cm
20 mm/s
NANOVEA PS50은 다양한 표면 특성을 2D 및 3D 데이터로 측정하고 분석할 수 있습니다.
표면의 거칠기와 마감 상태를 정량적으로 측정하고 분석합니다.
표면의 윤곽, 곡률 및 전체적인 기하학적 형상을 측정합니다.
표면의 미세 텍스처와 결정립 구조 및 분포를 분석합니다.
코팅층, 박막, 패턴 및 가공면의 단차 높이와 두께를 측정합니다.
표면의 돌출부, 함몰부, 마모 흔적 등의 부피와 면적을 계산합니다.
시료 표면의 평탄도, 휨 및 변형 정도를 분석합니다.
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